1. 光刻技术是现代半导体集成电路的关键一环,其工作原理如图所示。光源发出强紫外光,调整镂空掩膜版和缩图透镜之间的距离,恰好能在硅片上成清晰的像,从而实现纳米级集成电路的“雕刻”,下列说法错误的是(  )

A. 硅片位于缩图透镜的二倍焦距以外 B. 此投射原理与照相机的原理相同 C. 缩图透镜对光有会聚作用 D. 若将掩膜版靠近缩图透镜,为成清晰像,应将硅片远离缩图透镜
【考点】
凸透镜成像规律及其探究实验;
【答案】

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