1. 光刻技术原理如图:当光源发出强紫外线光时,调节镂空掩膜版和缩图透镜之间的距离,使光通过二者后,恰好在硅片上成清晰的像,从而实现纳米级集成电路的“雕刻”。缩图透镜属于的类型可用于矫正(选填“近”或“远”)视眼,为了使硅片上所成的像更小一些,应将掩膜版缩图透镜的同时,硅片缩图透镜。(以上两空均选填“靠近”或“远离”)

【考点】
凸透镜成像规律及其探究实验; 近视眼的成因与矫正办法;
【答案】

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