1. 光刻技术是现代半导体集成电路的关键一环,其工作原理如图所示。光源发出强紫外光,调整镂空掩膜版和缩图透镜之间的距离,恰好能在硅片上成清晰的像,从而实现纳米级集成电路的“雕刻”,下列说法正确的是(  )

A. 此投射原理与照相机的原理相同 B. 缩图透镜对光有发散作用 C. 硅片上的像是虚像 D. 为了在硅片上成更小的像,可将镂空掩膜版靠近缩图透镜
【考点】
透镜及其特点与分类; 凸透镜成像规律及其探究实验;
【答案】

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