1. 光刻机常用于制造半导体芯片上。在制造芯片时,需要使用光刻机将电路图案“镀”在芯片表面上,以便进行后续的加工工艺,其工作原理如图所示。

(1) 为防止芯片工作时温度过高,常用散热片将热量散失到环境中,这种改变芯片内能的方式是
(2) 晶圆上呈现的是清晰缩小的电路图案,该缩图透镜的焦距为f,则图中距离a与焦距f的关系为
【考点】
物体内能的改变方法;
【答案】

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