1. 光刻是半导体器件制造工艺中的重要步骤,原理可以简化为如图所示,光源发出强紫外光穿过镂空掩膜版,调整镂空掩膜版和缩图透镜之间的距离,镂空掩膜版恰好能在硅片上成清晰的像,实现纳米级集成电路的“雕刻”,关于光刻工艺,下列说法正确的是(   )

A. 缩图透镜是凸透镜 B. 在硅片上形成的清晰的像是实像 C. 此成像原理与显微镜物镜的成像原理相似 D. 若将镂空掩膜版靠近缩图透镜,为成清晰的像,应将硅片远离缩图透镜
【考点】
凸透镜成像的应用; 生活中的透镜;
【答案】

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