1.
光刻是半导体芯片生产流程中最关键的工艺步骤，如图所示是某型光刻机的简化工作原理，利用缩图透镜将绘制在掩膜上的电路图通过光源投射到涂有光刻胶的硅片上，从而制造出集成电路。若掩膜上的电路图恰好在硅片上成清晰缩小的像，下列说法正确的是（ ）
A.
硅片位于缩图透镜的一倍焦距以内
B.
掩膜位于缩图透镜的一倍焦距以内
C.
掩膜上的电路图在硅片上成的像是虚像
D.
要使硅片上成的像变小，需将掩膜向上移动
【考点】
凸透镜成像规律及其探究实验;
