1.
回答问题
中国芯片蚀刻技术国际领先。NF3进行硅芯片蚀刻时的产物均为气体，在蚀刻物表面不留任何残留物。该反应化学方程式为：
请按要求回答下列各题。
(1)
①x的化学式为。
(2)
航天梦，照亮中国科技兴国路。“神舟十三号”飞船载人进入空间站，航天员要在空间站生活半年，假设空间站为此要提供480kg的氧气。
②该反应的基本反应类型为。
①空间站若用电解水的方法来提供氧气，请写出电解水的化学方程式。实验室电解水时，检验氧气的方法是。
②如图是我国空间站准备建立的水气整合系统，其中“氧气生成系统”的原理是电解水，通过“萨巴蒂尔系统”用氢气处理航天员排出的CO2 ， （ ， 条件省略），液态水可循环利用，甲烷则排入太空。若该空间站所需氧气的一半由该水气整合系统提供，则理论上“水气整合系统”要补充水的质量为kg。
【考点】
氧气的检验和验满;
电解水实验;
反应类型的判定;
质量守恒定律及其应用;
根据化学反应方程式的计算;