1.
刻蚀技术是硅芯片制造的关键。用NF3刻蚀硅芯片，产物均为气体，在刻蚀表面不留任何残留物，是一种较为先进的刻蚀技术，如图为该反应的微观过程示意图。回答下列问题：
(1)
刻蚀产物SiF4中Si的化合价为。
(2)
反应生成的丙和丁微粒数之比为。
(3)
用NF3刻蚀硅芯片的反应属于基本反应中的反应。
【考点】
元素化合价的规则与计算;
置换反应及其应用;
