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1. 光刻技术是现代半导体集成电路的关键一环，其工作原理如图所示。光源发出强紫外光，调整镂空掩膜版和缩图透镜之间的距离，使光通过二者后，恰好能在硅片上成清晰的像，从而实现纳米级集成电路的“雕刻”，下列说法错误的是（　　）

A. 缩图透镜是凸透镜 B. 在硅片上形成的像是实像 C. 此成像原理与显微镜物镜的成像原理相似 D. 若将掩膜版靠近缩图透镜，为成清晰像，应将硅片远离缩图透镜
【考点】
显微镜;
【答案】

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单选题 普通
基础巩固
能力提升
变式训练
拓展培优
真题演练
换一批
1. 如图所示为显微镜和天文望远镜的示意图，关于两种仪器下列说法错误的是（　　）

   

A. 显微镜的物镜相当于投影仪 B. 天文望远镜的物镜相当于照相机 C. 显微镜的目镜是凹透镜 D. 天文望远镜的目镜是凸透镜
单选题 容易
2.  如右图所示为实验室用显微镜和天文望远镜，关于图中两种仪器下列说法错误的是（　　）

A. 显微镜的目镜成正立放大的虚像，物镜成倒立放大的实像 B. 天文望远镜的目镜成正立放大的虚像，物镜成倒立缩小的实像 C. 显微镜的目镜相当于凸透镜，物镜相当于凹透镜 D. 天文望远镜的目镜和物镜都相当于凸透镜
单选题 容易
3. 显微镜的物镜和目镜，分别相当于（    ）
A. 投影仪 放大镜 B. 投影仪 照相机 C. 照相机 投影仪 D. 放大镜 照相机
单选题 容易