超纯氢氟酸主要用作芯片材料清洗和蚀刻。回答下列问题：

1. 超纯氢氟酸主要用作芯片材料清洗和蚀刻。回答下列问题：

(1) 氢氟酸可保存在聚四氟乙烯容器中，聚四氟乙烯的结构简式为。

(2) 工业氢氟酸生产超纯氢氟酸时，需经除杂质(AsF₃)、气化、洗涤等步骤。

①除去AsF₃的反应为4AsF₃＋4KMnO₄＝4MnO₄＋2As₂O₅＋4KF＋3O₂↑，该反应的氧化产物为。

②CoF₃可与H₂O反应生成HF，该反应的化学方程式为(CoF₃还原为CoF₂)

③在无水氟化氢汽化时，可向发生装置中掺入含有F₂ ， NF₃和OF₂中的一种或多种的含氟气体，以氧化杂质。NF₃的电子式为；OF₂中氧元素的化合价为，OF₂可由F₂与稀NaOH溶液反应制取，该反应的离子方程式为。

【考点】

氧化还原反应; 结构简式; 电子式、化学式或化学符号及名称的综合;

【答案】

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综合题普通

已知：pH升高时， $\text{[math]}$ 易歧化为 $\text{[math]}$ 和 $\text{[math]}$ 。

a． $\text{[math]}$ 主要在阴极室产生

b． $\text{[math]}$ 在电极上放电，可能产生 $\text{[math]}$

c．阳离子交换膜破损导致 $\text{[math]}$ 向阳极室迁移，可能产生 $\text{[math]}$

①加入 $\text{[math]}$ 的目的是消耗水样中残留的 $\text{[math]}$ 和 $\text{[math]}$ 。若测定中未加入 $\text{[math]}$ ，则测得的水样中 $\text{[math]}$ 的浓度将(填“偏大”“偏小”或“不受影响”)。

②滴定至终点时消耗 $\text{[math]}$ 酸性 $\text{[math]}$ 溶液，水样中 $\text{[math]}$ 的计算式为。

①反应的离子方程式为。

②处理 $\text{[math]}$ 时，盐酸可能的作用是：

i．提高 $\text{[math]}$ ，使 $\text{[math]}$ 氧化性提高或 $\text{[math]}$ 还原性提高；

ii．提高 $\text{[math]}$ ，。

③用如图装置验证i，请补全操作和现象：闭合K，至指针读数稳定后，。

综合题普通

（i）元素被氧化，是氧化剂；

综合题普通

综合题普通