1.
高纯CO可用于半导体领域某些芯片的刻蚀，利用甲酸（HCOOH）制取高纯CO的主要流程如下：
(1)
甲酸中碳元素和氧元素的质量比为。
(2)
反应塔中甲酸分解的微现示意图如下，在方框中补全另一种产物的微粒图示。
(3)
反应塔中发生副反应产生微量CO2。洗涤器中加入NaOH溶液的目的是中和未反应的甲酸蒸气，并除去CO2 ， NaOH与CO2反应的化学方程式为。
【考点】
化学方程式的书写与配平;
化学式的相关计算;
微粒观点及模型图的应用;
