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1. 含A元素的一种单质是一种重要的半导体材料，含A元素的一种化合物C可用于制造高性能的现代通讯材料﹣﹣光导纤维，C与烧碱反应生成含A元素的化合物D．
(1) 写出C与HF的化学方程式是．
(2) 将C与纯碱混合高温熔融时也发生化学反应生成D，同时还生成B的最高价氧化物E；将全部的E与全部的D在足量的水中混合后，又发生化学反应生成含A的化合物F．

①写出生成F的化学方程反应方程式：．

②要将纯碱高温熔化，下列坩埚中可选用的是．

A、普通玻璃坩埚B、石英玻璃坩埚C、氧化铝坩埚D、铁坩埚
(3) 100gC与石灰石的混合物充分反应后，生成的气体在标准状况下的体积为11.2L，100g混合物中石灰石的质量分数是．
【考点】
硅和二氧化硅;
【答案】

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综合题 普通
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1. 硅是无机非金属材料的主角，硅的氧化物和硅酸盐约占地壳质量的90%以上。
(1) 可用于制作计算机芯片和太阳能电池的是(填化学式)。
(2) 工艺师常用氢氟酸来雕刻玻璃，该反应的化学方程式为。
(3) 高纯度单晶硅可以按下列方法制备：

(粗) (纯)

i.步骤①的化学方程式为。

ii.步骤②的产物中，SiHCl3大约占85%，还有SiCl4、SiH2Cl2、SiH3Cl等，有关物质的沸点数据如下表，提纯SiHCl3的主要工艺操作依次是沉降、冷凝和。

物质

Si

SiCl4

SiHCl3

SiH2Cl2

SiH3Cl

HCl

SiH4

沸点/℃

2355

57.6

31.8

8.2

-30.4

-84.9

-111.9
综合题 普通
2. 摩擦剂是牙膏的主体成分，SiO2是一种常见的摩擦剂。
(1) Si在元素周期表中的位置是。
(2) 根据用途推测SiO2在水中的溶解性：(填“易溶”或“难溶”)。
(3) 制备SiO2的方法如下：

①写出反应I的离子方程式。

②比较酸性强弱：H2SO4H2SiO3(填“>”或“＜”)。

③结合原子结构解释②中酸性关系：Si和S电子层数相同，。
(4) 为满足不同需求，牙膏中还会添加一些特殊物质，如含氟牙膏中添加氟化亚锡(SnF2)。锡的原子结构示意图如图。

下列说法正确的是(填序号)。

a.Sn元素的最高正化合价为+4

b.Sn的原子半径比Si大

c.Sn和Si均可以作半导体材料
综合题 普通
3. 根据问题填空：
(1) 制造光导纤维的主要原料是（写化学式）
(2) 硅是用于制造集成电路、电脑芯片、大阳能电池板（光电池，的半导体材料，硅原子结构示意图．
(3) 实验室不用带玻璃塞的试剂瓶盛放NaOH溶液的原因是：（用化学方程式表示）．
(4) 硅酸凝胶经干燥脱水形成硅酸干胶，称为“硅胶”．它具有优良的性，常用于干燥剂，也可作催化剂的载体．
(5) 硅酸钠（Na2SiO3）的水溶液俗称，常用作黏合剂和木材防火材料．
综合题 普通