1.
光刻技术的工作原理知成小的清晰的时镂空拖膜，调整镂空掩膜、缩图透镜的位置，恰好能在硅片上成极小的清晰的像，从而实现集成电路的“光刻”。下列关于“光刻”的说法正确的是
A.
硅片相当于光屏
B.
缩图透镜相当于凹透镜
C.
镂空掩膜与缩图透镜的距离大于二倍焦距
D.
来自镂空掩膜的光经过缩图透镜后成虚像
【考点】
透镜及其特点与分类;
生活中的透镜;
